GaN MOCVD: оборудование, для создания которого основана эта компания

Что делает MOCVD, в одном абзаце

Реактор MOCVD — это реактор в линейке оборудования, для создания которой основана эта компания — этап оборудования, который опубликованная цепочка компании называет первым, до эпитаксиального выращивания на сапфире. Опубликованная цепочка компании проходит от её собственного оборудования MOCVD через эпитаксиальное выращивание на сапфире к изготовлению кристаллов и корпусированию.

Отчёт о программе

Почему покупателю оборудования важно знать о линии LED

Структура Jason конкретна: компания, создающая реакторы, также эксплуатирует производственную линию UV LED, построенную на собственном оборудовании в 2010 году. Для покупателя, создающего эпитаксиальную мощность для GaN или глубокого ультрафиолета, это значимый контекст — производитель оборудования является также действующим оператором эпитаксии. Это изложено как структура, а не как соответствие между какой-либо текущей конфигурацией системы и приборами в каталог кристаллов: конфигурации специфицируются по каждому проекту, а то, что вырастит данная конфигурация, устанавливается в ходе обмена по спецификации этого проекта.

Кому служит эта линейка

• Научно-исследовательские институты и университеты создающие компетенции в эпитаксии GaN.
• Производители LED и полупроводниковых соединений добавляющие мощности по глубокому ультрафиолету или GaN.
• Производители компонентов оценивающие вертикальную интеграцию в собственную эпитаксию — тот же шаг, который Jason сама сделала в 2010 году.

Текущие конфигурации систем специфицируются по каждому проекту на основе формата пластины, программы слоёв, производительности и инфраструктурных данных, указанных в запросе. Опубликованные выше вехи производственной линии являются опубликованной историей программы, а не заменой обсуждению конфигурации.

Страницы оборудования

• Реактор MOCVD — реактор в собственной программе оборудования компании и поколения в её опубликованном отчёте.
• эпитаксия GaN — сам этап роста: эпитаксия на сапфире и её место в цепочке компании.
• Процесс MOCVD — этап роста в опубликованной цепочке и исходные данные, под которые специфицируется конфигурация.

Документированная последовательность, лежащая в основе двух продуктовых линеек

Программа оборудования и каталог компонентов разделяют документированную последовательность. Компания была основана в 2001 году для разработки оборудования GaN MOCVD и завершила свою первую систему в 2002 году; за 3-пластинным поколением последовало в 2005 году, а за 6-пластинным — в 2007 году, последнее зафиксировано в истории компании как проект государственной программы 863. В 2009 году компания была реструктуризирована с инвестициями муниципалитета Циндао и правительства района Лаошань и привлекла команду докторов наук, вернувшихся из-за рубежа. В 2010 году она открыла свою производственную линию UV LED на собственном оборудовании, а прикладные продукты были коммерциализированы к 2012 году. Каждый шаг изложен в опубликованной истории компании; каталог компонентов опирается на более поздние из них.

Замечание о масштабе и откровенности

Опубликованные вехи программы — это платформенные системы с несколькими пластинами — 3-пластинное, а затем 6-пластинное поколения, документированные поколения разработки реакторов компании. Отдельно история компании фиксирует, что её производственная линия UV LED была построена на собственном оборудовании в 2010 году; при этом не уточняется, какое поколение реакторов использовала эта линия. (История компании фиксирует эти поколения по числу пластин за запуск; формат пластин для новых конфигураций подтверждается по каждому проекту.) Текущие конфигурации для новых установок специфицируются по каждому проекту под формат пластины и программу слоёв. Покупателям, оценивающим требования к более крупному формату или высокой производительности, следует прямо изложить их в запросе — обсуждение конфигурации и есть место, где соответствие платформы устанавливается честно и подробно.